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在氧化染色整個流程中，因為氧化（huà）工藝原因造成染（rǎn）色不良是比較普遍的。氧化膜的膜厚和（hé）孔（kǒng）隙均勻一致是染色時獲（huò）得均勻一致顏色的前（qián）提和基礎（chǔ），為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環量，冷卻（què）量，保證良好（hǎo）的（de）導電性是舉（jǔ）足輕重的，此（cǐ）外就是氧化工藝的穩定性。氧化溫度，控製在20℃左右，氧化槽液的（de）溫度對染色的影響非常顯著，過低的溫度（dù）致使氧化膜的膜孔致密（mì），染（rǎn）色速度顯著減緩；溫度過高，氧化膜蔬鬆，容易粉化，不（bú）利於染色的控製，氧化槽的溫差變化應在（zài）2℃以內為宜。硫酸（suān）濃度，控（kòng）製在180—200g／l。稍高的硫酸濃度可促進氧化膜的溶解反應加快（kuài），利於（yú）孔隙（xì）的擴張，更易於染色；鋁離子濃（nóng）度，控製在5—15 g／l。鋁離子小於5g／l，生成的氧（yǎng）化膜吸附能力降低，影響上色速度，鋁離子大於15g／l時，氧化膜的均勻性受到影響，容易出現不規則的膜層。
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